MDA-400LJ/600LJ光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国MIDAS公司，唯一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-400LJ/600LJ光刻机 光刻机

MDA-400LJ

操作安装方便，可处理各种尺寸的基板，采用UV-LED曝光模块，UV-LED寿命长

•手动操作

•掩模版尺寸达5英寸

•基板尺寸为4英寸圆形

•均匀性光束尺寸125mm圆

•UV光源UV LED

•光束波长365 nm

•光束均匀性<±3%

•365 nm强度 ~20 mW/㎠

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接触

•尺寸（mm）800（宽）*800（深）*800（高）

MDA-600LJ

操作安装方便，可处理各种尺寸的基板，采用UV-LED曝光模块，UV-LED寿命长

•手动操作

•掩模版尺寸高达7英寸

•基板尺寸为6英寸圆形

•均匀光束尺寸170 mm圆

•UV光源：UV LED

•光束波长365 nm

•光束均匀性<±5%

•365 nm强度 ~20 mW/㎠

•手动对准

•对准精度1 um

•操作模式：软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率 1 um@1 um PR厚度，真空接触

•重量（kg）150

•尺寸（mm）800（宽）*800（深）*800（高）